2021年4月23日下午，受我院激光技术系秦应雄老师的邀请，武汉大学微电子学院装备研究室主任宋毅博士在银河电子游戏1331大楼B309会议室作了题为集成电路制造中的计算光刻、测量和3D光刻技术学术报告。宋毅博士介绍了集成电路芯片制造中光刻技术的原理、历程与发展趋势，分析了光刻设备的关键核心技术，并且系统介绍了自己的科研工作，包括计算光刻OPC的掩膜优化、基于物理模型的纳米尺寸光学测量OCD方法和基于灰度曝光能力的3D激光直写光刻技术等创新性工作。
武汉大学王度研究员陪同进行了学术交流，我院激光技术系唐霞辉、李政言、张兆伟、张金伟、马冬林、肖瑜等老师，以及学院和武汉光电国家研究中心等单位研究生共计30余人参加了此次报告会。报告结束之后，宋毅博士与在场师生进行了热烈的讨论，并对师生提出的问题进行了细致耐心地分析及解答。
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